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LPCVD是加热的方式条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低。气体分子的平均自由程和扩散系数大，故可采用密集装片方式来生产率，并在衬底表面获得均匀性良好的薄膜淀积层。... ...